点击图片查看原图
匀胶机，光刻机，显影机，等离子清洗机，紫外臭氧清洗机，紫外固化箱，压片机，等离子去胶机，刻蚀机，加热板
半导体化工领域专业实验设备供应商：迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司，专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商，迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务，帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。
我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定，尊重他们的决定，并协助他们实现高效率的科研成果，追求丰富有意义的生活。
请选择合适的型号
NX-B100多功能整片基板纳米压印系统（热压印）
zui大75毫米直径压印面积 热压印
加热速度 200℃/分钟 制冷速度 60℃/分钟
NX-B200多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印）
zui大75毫米直径压印面积 热压印和紫外压印
加热速度 200℃/分钟 制冷速度 60℃/分钟
58mW/cm2紫外LED光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制
NX-1000多功能整片基板纳米压印系统（热压印）
标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印 加热速度 300℃/分钟 制冷速度 150℃/分钟
NX-2000多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印）
标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印和紫外压印
加热速度 300℃/分钟 制冷速度 150℃/分钟
200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制
NX-2500
多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印系统
标配4英寸,6或8英寸压印面积可选
热压印和紫外压印
加热速度 300℃/分钟 制冷速度 150℃/分钟
200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制
带对准功能（亚1微米对准精度） 多层次的纳米压印
对准模块 1 m 3 对准准确率 X, Y, Z, Theta平台
分场光学和CCD相机
NX-2600
多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印和高分辨率光刻系统
可选背面对准
标配4英寸,6或8英寸压印面积可选
热压印和紫外压印
加热速度 300℃/分钟 制冷速度 150℃/分钟
200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制
带对准功能（亚1微米对准精度） 多层次的纳米压印
对准模块 1 m 3 对准准确率 X, Y, Z, Theta平台
分场光学和CCD相机
标配5 模板,标配4 直径基板 其他尺寸可以提供500瓦紫外水银灯光源
Lumina200多功能高精度光刻机
4寸基板，5寸掩膜
Ultra-100多功能集成清洁和单分子层气态镀膜系统
Pieces to Full Wafers (2 , 3 , 4 , 6 or 8 OD, etc) Up to 8 8