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LSH-SiC200碳化硅红外光源室
碳化硅红外光源包括光源室、直流稳压稳流电源和一个冷却用水箱三个组成。碳化硅红外光源室又分为成像室和碳化硅棒及其冷却室。成像室采用反射成像光路，反射镜镀金，以增加红外反射率。冷却室采用循环水冷却方式，有效避免了风冷造成的空气扰动，建议用户采用外循环水系统。系统标配有潜水泵和不锈钢水箱，并且配有水流保护，方便不具备外循环水系统的用户选择使用。
技术参数：
规格参数
型号/参数 LSH-SiC200
功率(W) 200
光谱范围(μm) 1～16
孔径比 f/4
碳化硅发光面(mm) 5×14
碳化硅的额定电流(A) 18
光源寿命(h) 400
光路中心高(mm) 128～168(可调)
光源工作温度(K) 900-1200
主要特点：
主要特点
◆ 功率： 200W
◆ 光谱范围：1-16μm
◆ 辐射系数大，效率光
◆ 光源室反射镜全部镀金膜，单片镜片反射率 98%
◆ 输出相对孔径设计与“谱王”光谱仪匹配，提高光谱测量时的光收集效率
主要用途
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碳化硅红外光源
核心提示：LSH-SiC200碳化硅红外光源室 碳化硅红外光源包括光源室、直流稳压稳流电源和一个冷却用水箱三个组成。碳化硅红外光源室又分为成像室和碳化硅棒及其冷却室。成像室采用反射成像光路，反射镜镀金，以增加红外反射率。冷却室采用循环水冷却方式，有效避免了风冷造成的空气扰动，建议用户采用外循环水系统。系统标配有潜水泵和不锈钢水箱，并且配有水流保护，方便不具备外循环水系统的用户选择使用。 技术参数： 规格参数 型号/参数 LSH-SiC200 功率(W) 200 光谱范围(μm) 1～16 孔径比 f
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