显微镜来进行量测八阶及灰阶微透镜-测量元件特性
元件特性之量测
实验量测结果包含了蚀刻速率、表面轮廓、以及光学特性等资料。
其中表面轮廓之量测方法有表面轮廓测厚仪及扫描式电
子显微镜来进行量测八阶及灰阶微透镜。
蚀刻速率之量测
在制作绕射式光学元件的过程中,会经过活性离子蚀刻的制
程,为了要使蚀刻后的深度符合光学计算的结果,必须要求蚀刻速
率的精準度。
若是制作八阶微透镜,我们则需要对基板的蚀刻速率具有相当
的了解,每经由一次的 RIE 蚀刻过程,其对元件品质的影响是具有
累加性的﹔若是制作灰阶微透镜,我们就必须强烈的要求光阻与基
板的蚀刻速率比为一定值,甚至蚀刻速率比要完全相同,才能将光
阻上的图案複制到基板上。
我们寻找适当的蚀刻条件来制作微透镜,
使用的基板为石英基板,光阻则是 AZ 1500﹔蚀刻气体为四
氟化碳,真空腔内部的压力设为 50mtorr,蚀刻功率为 125W 。