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快速退火炉_滑轨式快速退火炉-天津中环电炉股份有限公司

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放大字体  缩小字体    发布日期:2019-09-02  来源:仪器信息网  作者:Mr liao  浏览次数:991
核心提示:更新时间:2019-08-14 14:40:331998 联系我们时请说明是91化工仪器网上看到的信息,谢谢! 快速退火炉操作便捷,电热元件采用红外灯管,升温速度快,节省时间,滑动法兰使装卸样品过程简化,方便操作,可快速得到实验结果,取消了反复的法兰安装过程,减少了炉管因安装造成的损坏。 产品用途:此款CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。产品组成:此款CVD系统配置:1.1200度开启式真空管式炉(可选配单温区、双

更新时间:2019-08-14 14:40:331998

联系我们时请说明是91化工仪器网上看到的信息,谢谢!


快速退火炉操作便捷,电热元件采用红外灯管,升温速度快,节省时间,滑动法兰使装卸样品过程简化,方便操作,可快速得到实验结果,取消了反复的法兰安装过程,减少了炉管因安装造成的损坏。

产品用途:

此款CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

产品组成:

此款CVD系统配置:

1.1200度开启式真空管式炉(可选配单温区、双温区)。

2.多路质量流量控制系统

3.真空系统(可选配中真空或高真空) 

产品特点:

1 控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲,性能可靠,操作简单。

2 气路快速连接法兰结构采用本公司独有的知识产权设计,提高操作便捷性。

3 中真空系统具有真空度上下限自动控制功能,高真空系统采用高压强,耐冲击分子泵

 防止意外漏气造成分子泵损坏,延长系统使用寿命。


 

系统名称1200℃滑动式单/双温区CVD系统系统型号CVD-12IH-3Z/GCVD-12IIH-3Z/GCVD-12II6H-3Z/Gzui高温度1200℃加热区长度420mm420mm610mm恒温区长度210mm280mm400mm温区单温区双温区双温区石英管管径 50/ 60/ 80/ 100mm 50/ 60/ 80mm 80/ 100mm额定功率2.5Kw3.2Kw4.8Kw额定电压220V滑动距离290mm485mm滑动方式自动滑动/手动滑动温度控制国产程序控温系统50段程序控温;控制精度 1℃炉管zui高工作温度<1200℃气路法兰密封法兰与管件连接的地方采用多环密封技术,在密封法兰与管外壁间形成了密封,在管件外径误差较大的情况下密封仍然有效,该密封法兰的安装只需在*次使用设备的时候安装气体控制方式质量流量计气路数量3路(可根据具体需要选配气路数量)流量范围0-500sccm(标准毫升/分,可选配)氮气标定精度 1%F.S响应时间 4sec工作温度5-45℃工作压力进气压力0.05-0.3Mpa(表压力)系统连接方式采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪规格中真空高真空系统真空范围10Pa-100Pa1x10-3Pa-1x10-1Pa真空泵双级机械泵理论极限真空度3x10-1Pa,抽气速率4L/S,出气口配有油污过滤器,额定电压220V,功率0.55Kw真空分子泵理论极限真空度5x10-6Pa抽气速度1200L/S额定电压220V功率2KW真空分子泵理论极限真空度5x10-6Pa抽气速度1600L/S额定电压220V功率2KW炉体外形尺寸340 580 555mm480 770 605mm系统外形尺寸530x1440x750mm530x1440x750mm(不含高真空)系统总重量230kg330kg
 
 
 
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