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OAI INSTRUMENTS光刻机_电子元器件-天津赛力斯自动化科技有限公司

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放大字体  缩小字体    发布日期:2019-09-03  来源:仪器信息网  作者:Mr liao  浏览次数:372
核心提示:OAI INSTRUMENTS光刻机OAI INSTRUMENTS光刻机OAI INSTRUMENTS光刻机OAI INSTRUMENTS光刻机OAI INSTRUMENTS光刻机 【详细说明】 OAI INSTRUMENTS是业内生产可靠并精密设备的MEMS,半导体,纳米技术,洁净室自动化和紫外线光测量的优秀制造商。OAI系统可同时用于研发和生产半导体,MEMS和微流体装置。从光罩对准和UV光源UV电力仪表,OAI是在同行业中的领先者超过35年。OAI光功率计以其测量精度,重复性著称,测量数据符合美国
OAI INSTRUMENTS光刻机OAI INSTRUMENTS光刻机OAI INSTRUMENTS光刻机OAI INSTRUMENTS光刻机OAI INSTRUMENTS光刻机 【详细说明】

  OAI INSTRUMENTS是业内生产可靠并精密设备的MEMS,半导体,纳米技术,洁净室自动化和紫外线光测量的优秀制造商。OAI系统可同时用于研发和生产半导体,MEMS和微流体装置。从光罩对准和UV光源UV电力仪表,OAI是在同行业中的领先者超过35年。OAI光功率计以其测量精度,重复性著称,测量数据符合美国NIST标准,广泛应用于半导体光刻能量测量及控制。OAI INSTRUMENTS光刻机

 

OAI INSTRUMENTS光刻机产品范围:

美国OAI INSTRUMENTS曝光机、OAI INSTRUMENTS光刻机、OAI INSTRUMENTS光源、OAI INSTRUMENTS、OAI INSTRUMENTS光功率计、OAI INSTRUMENTS分析仪

 

主要型号:

Model 306、Model 308、Model 311、Model 316、Model 317、Model 356、Model 357、Model 358、Model 457、Model 458、Model 459

 

美国OAI INSTRUMENTS Model 800半自动光刻机简介:

光刻方式:接近式,软,硬,真空接触式

曝光距离:0-3000 m

间隙调节步进:1um

机械精度:1.5um

光刻精度:软接触2um,硬接触小于1um

 

美国OAI INSTRUMENTS Model 6000全自动光刻机技术规格:

光刻方式:接近式,软,硬,真空接触式

基底尺寸:2-12寸晶圆或者最大200mm方形

曝光分辨率:

真空接触:0.5-0.8um

硬接触:0.8-1.0um

软接触:1.0-3.0um

接近式(20um 间隙):3.0um

曝光均匀性:优于 3%

对准精度:顶面0.5um,底面1.0um(选件)

产量:180片/小时最大

天津赛力斯自动化科技有限公司是一家集研发、工程、销售、技术服务于一体的现代化企业,是国内自动化领域竞争力的设备供应商。公司主要经营欧美和日韩 等发达国家的机电一体化设备、高精度分析检测仪器、环境与新能源工业设备及电动工具等工控自动化产品。 凭借专业的技术与商务团队, 公司在为客户带来优质产品的同时还可提供自动化工程技术服务及成套解决方案。

 

 
 
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