KRI 霍尔离子源 eH 400

KRI 霍尔离子源 eH 400
上海伯东代理美国原装进口KRI 霍尔离子源 eH 400 低成本设计提供高离子电流,霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统,可以控制较低的离子能量, 适用于像塑胶镜片等脆弱的材料和 III-V 族半导体材料 (III-V compound). 典型应用离子辅助沉积工艺. 原位预清洗和低能离子刻蚀工艺.
KRI 霍尔离子源 eH 400 技术参数:

KRI 霍尔离子源 eH 400 应用领域：
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉积 DD

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201206
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