KRI 霍尔离子源 eH 200
上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH200 是霍尔离子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本设计离子源. 霍尔离子源 eH200 适用于小型真空腔内, 例如研发分析, 薄膜沉积和离子清洗. 霍尔离子源 eH200 操作简单是理想的生产工具.
KRI 霍尔离子源 eH 200 技术参数:
KRI 霍尔离子源 eH 200 应用领域:
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉积 DD 其他产品
电话:+86-21-5046-3511
邮箱:ec@hakuto-vacuum.cn
地址:上海市浦东新区
新金桥路1888号36号楼7楼702室
201206
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